Plazmowe technologie przemysłowe – cięcie
Gazy stosowane przy cięciu plazmowym
Do cięcia plazmą używane są dwa rodzaje gazów technicznych: gaz plazmotwórczy oraz gaz osłonowy [6]. Gaz plazmotwórczy opływa elektrodę centralną (na ogół wolframową) usytuowaną wewnątrz dyszy. Przy czym gaz plazmotwórczy możemy podzielić na gaz zapłonowy – służący do zajarzenia łuku plazmowego – oraz gaz tnący – niezbędny do prowadzenia procesu cięcia danego materiału przy pomocy łuku plazmowego. Gaz osłonowy przepływający zewnętrzną dyszą tworzy atmosferę ochronną, stabilizuje łuk elektryczny oraz polepsza jakość krawędzi cięcia.
Gaz plazmotwórczy powinien charakteryzować się: wysoką pojemnością cieplną, dobrą przewodnością cieplną, odpowiednim poziomem reaktywności chemicznej, dużym ciężarem atomowym oraz niskim poziomem jonizacji (gazy jednoatomowe) lub dużym ciężarem cząsteczkowym oraz niskim poziomem dysocjacji (gazy wieloatomowe). W procesie cięcia plazmą, w zależności od zastosowania, stosuje się zazwyczaj gazy oraz ich mieszaniny takie jak: powietrze, azot, argon, wodór oraz tlen. Natomiast jako gazy osłonowe (wirujące, pomocnicze) stosuje się: dwutlenek węgla, azot i powietrze.